Ultraviolet Lithography Machine

High-Precision E-Beam Lithography

Reactive Ion Etching System (with thickness measurement function)

Chemical Vapor Deposition(CVD) Equipment

Scanning Electron Microscopy (SEM)

Transmission Electron Microscopy (TEM)

  课题组所属的光电研究院拟建设光电科学技术原创研究平台，目前已有材料科学系和信息科学与工程学院相关研究的用房4000平方米，以及学校配套院士团队的1000平方米。拟建设的光电研究院总面积将达到8000平方米，全职科研人员规模将达到200名左右。

   在脑电传感器件制备技术上，复旦大学微纳加工与器件公共实验室也为本课题组的相关实验（如基于单晶硅纳米薄膜器件的实验等）提供了条件。作为“985 工程”三期重点建设的高水平学术研究中心之一，该微纳平台具有成熟的微加工和测试手段，包括紫外光刻机、高精度电子束曝光机、配有膜厚测量装置的反应离子刻蚀机、化学气相沉积设备、扫描电子显微镜、透射电子显微镜等。

    在微纳器件制备上，复旦大学纳米薄膜实验室于本课题组亲密合作，为本课题组提供相应器材所需（详见https://nanomem.fudan.edu.cn/25607/list.htm）。